机译:通过辉光放电光谱法研究掺杂元素对掺杂非晶硅薄膜的表征:电导率和带隙能量测量的相关性
机译:通过辉光放电光谱研究掺杂元素来表征掺杂的非晶硅薄膜。电导率和带隙能量测量的相关性
机译:非晶硅薄膜中所含的氢对与飞行时间质谱耦合的脉冲射频氩辉光放电的影响。与添加氢气作为放电气体的比较
机译:内源性氢和外源性氢对脉冲射频辉光放电光发射光谱法分析非晶硅薄膜的影响
机译:利用稳态光电导和亚带隙吸收研究氢化非晶硅膜中的固有缺陷状态
机译:辉光放电对激光汽化沉积薄膜的影响以及辉光放电中铜-氧反应的活化能测量。
机译:通过辉光放电光谱研究掺杂元素来表征非晶硅薄膜。电导率和带隙能量测量的相关性
机译:通过辉光放电光谱研究掺杂元素来表征非晶硅薄膜:电导率和带隙能量测量的相关性
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日